2021-07-29 11:43:12 芯东西 编辑:乐乐 浏览数:10乐享网
芯东西 7 月 13 日报道,昨日,半导体设备厂商拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”)申报科创板 IPO 已获受理。拓荆科技主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和销售,其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(...“”
芯东西 7 月 13 日报道,昨日,半导体设备厂商拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”)申报科创板 IPO 已获受理。拓荆科技主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和销售,其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。
目前拓荆科技的产品已广泛应用于国内的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片和 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线,并开始了 10nm 及以下制程产品验证测试。
▲ 拓荆科技产品(来源:拓荆科技官网)
在半导体制程中,为了对所使用的材料赋与某种特性,在材料表面上常以各种方法形成薄膜而加以使用,这种薄膜形成的过程一般称为薄膜沉积。半导体薄膜沉积设备和光刻机、刻蚀机一样,是芯片制造的三大主设备。
2018 年-2020 年,拓荆科技营收增长较快,从 7064.4 万元增长至 4.36 亿元,复合增长率达 148.32%。
本次 IPO 拓荆科技计划募资 10 亿元,计划分别用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进、ALD 设备研发与产业化和补充流动资金 4 个项目。
▲ 拓荆科技募资方向与使用安排(来源:拓荆科技招股书)
国家集成电路基金为拓荆科技第一大股东,所占股份比例为 26.48%。由于最近 2 年内,拓荆科技第一大股东所持股权比例不足控股,其他股东持股比例相对分散,所以拓荆科技不存在控股股东。2019 年 1 月 1 日至今,拓荆科技无实际控制人。
▲ 拓荆科技股权结构(来源:拓荆科技招股书)
报告期内,2018 年-2020 年拓荆科技营业收入分别为 7064.40 万元、2.51 亿元和 4.36 亿元,2021 年第一季度其营收为 5774.10 万元。2019 年和 2020 年拓荆科技营收较上年同期增幅分别为 255.66% 和 73.38%。
净利润方面,拓荆科技至今仍在持续亏损,但亏损金额有所减少。2018 年-2020 年拓荆科技净利润分别为-1.03 亿元、-1936.64 万元和-1087.57 万元,2021 年第一季度净利润为-944.59 万元。
报告期内,拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度各期研发费用分别为 1.08 亿元、7431.87 万元、1.23 亿元和 2714.86 万元,占各期营业收入的比例分别为 152.84%、29.58%、28.19% 和 47.02%。较大的研发投入是拓荆科技亏损的主要原因之一。
▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度各期营收、净利润、研发投入变化
拓荆科技产品主要分为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。报告期内 PECVD 设备收入占总营收比例一直超过 75%,业务收入增速也较快,是拓荆科技的主要收入来源。
2018 年、2019 年、2020 年和 2021 年第一季度 PECVD 设备收入占拓荆科技总营收比例分别为 77.98%、100%、97.55% 和 100%。另外两项业务仍处于市场开拓阶段,2021 年第一季度 2 项业务收入为 0。
▲ 拓荆科技各业务营收金额及占比(来源:拓荆科技招股书)
从销售情况来说,拓荆科技客户较为集中。其 PECVD 设备的主要客户有中芯国际、华虹集团、长江存储和重庆万国半导体科技有限公司;ALD 设备主要客户为上海集成电路研发中心有限公司(ICRD);SACVD 设备的主要客户则是北京燕东微电子科技有限公司。
其中,中芯国际、华虹集团和长江存储从 2018 年至 2021 年第一季度一直为拓荆科技前五大客户。
▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度前五大客户(来源:拓荆科技招股书)
在供应方面,拓荆科技采购的原材料主要包括机械类、机电一体类、电气类、气体输送系统、真空系统和附属设备等。
报告期内,拓荆科技前五大供应商变动较小,2018 年至今 7 家厂商曾是拓荆科技的前五大供应商。
▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度前五大供应商(来源:拓荆科技招股书)
从市场上来看,全球半导体薄膜沉积设备市场主要由美国应用材料、美国泛林半导体、日本东京电子、荷兰先晶半导体等企业占据主导地位。
招股书显示,2019 年,在全球化学气相沉积(CVD)设备市场中,应用材料、泛林半导体、东京电子的市场占有率分别为 30%、21% 和 19%;在 ALD 设备全球市场中,东京电子(TEL)、先晶半导体(ASMI)的市场占有率分别为 31% 和 29%。
▲ 全球 ALD、CVD、PVD 设备市场份额(来源:拓荆科技招股书)
相比于上述公司,拓荆科技在营收、毛利率和净利润等盈利指标上存在较大差距,在融资渠道和研发经费上相对不足。此外,拓荆科技的业务收入也比较集中,相对外国半导体设备巨头来说企业认知度不足,面临一定的市场进入壁垒。
另一方面来看,拓荆科技已形成覆盖 20 余种工艺型号的薄膜沉积设备,满足晶圆制造产线多种工艺需求。其产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。
▲ 拓荆科技产品性能关键参数水平评价(来源:拓荆科技招股书)
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