国产半导体设备商拓荆科技冲刺科创板：供货中芯华虹长江存储，已进 14nm 产线

芯东西 7 月 13 日报道，昨日，半导体设备厂商拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”）申报科创板 IPO 已获受理。拓荆科技主营业务为半导体薄膜沉积设备的研发、生产和销售，其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。

目前拓荆科技的产品已广泛应用于国内的 28/14nm 逻辑芯片、19/17nm DRAM 芯片和 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线，并开始了 10nm 及以下制程产品验证测试。

▲ 拓荆科技产品（来源：拓荆科技官网）

在半导体制程中，为了对所使用的材料赋与某种特性，在材料表面上常以各种方法形成薄膜而加以使用，这种薄膜形成的过程一般称为薄膜沉积。半导体薄膜沉积设备和光刻机、刻蚀机一样，是芯片制造的三大主设备。

2018 年-2020 年，拓荆科技营收增长较快，从 7064.4 万元增长至 4.36 亿元，复合增长率达 148.32%。

本次 IPO 拓荆科技计划募资 10 亿元，计划分别用于高端半导体设备扩产、先进半导体设备的技术研发与改进、ALD 设备研发与产业化和补充流动资金 4 个项目。

▲ 拓荆科技募资方向与使用安排（来源：拓荆科技招股书）

国家集成电路基金为拓荆科技第一大股东，所占股份比例为 26.48%。由于最近 2 年内，拓荆科技第一大股东所持股权比例不足控股，其他股东持股比例相对分散，所以拓荆科技不存在控股股东。2019 年 1 月 1 日至今，拓荆科技无实际控制人。

▲ 拓荆科技股权结构（来源：拓荆科技招股书）

报告期内，2018 年-2020 年拓荆科技营业收入分别为 7064.40 万元、2.51 亿元和 4.36 亿元，2021 年第一季度其营收为 5774.10 万元。2019 年和 2020 年拓荆科技营收较上年同期增幅分别为 255.66% 和 73.38%。

净利润方面，拓荆科技至今仍在持续亏损，但亏损金额有所减少。2018 年-2020 年拓荆科技净利润分别为-1.03 亿元、-1936.64 万元和-1087.57 万元，2021 年第一季度净利润为-944.59 万元。

报告期内，拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度各期研发费用分别为 1.08 亿元、7431.87 万元、1.23 亿元和 2714.86 万元，占各期营业收入的比例分别为 152.84%、29.58%、28.19% 和 47.02%。较大的研发投入是拓荆科技亏损的主要原因之一。

▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度各期营收、净利润、研发投入变化

拓荆科技产品主要分为等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。报告期内 PECVD 设备收入占总营收比例一直超过 75%，业务收入增速也较快，是拓荆科技的主要收入来源。

2018 年、2019 年、2020 年和 2021 年第一季度 PECVD 设备收入占拓荆科技总营收比例分别为 77.98%、100%、97.55% 和 100%。另外两项业务仍处于市场开拓阶段，2021 年第一季度 2 项业务收入为 0。

▲ 拓荆科技各业务营收金额及占比（来源：拓荆科技招股书）

从销售情况来说，拓荆科技客户较为集中。其 PECVD 设备的主要客户有中芯国际、华虹集团、长江存储和重庆万国半导体科技有限公司；ALD 设备主要客户为上海集成电路研发中心有限公司（ICRD）；SACVD 设备的主要客户则是北京燕东微电子科技有限公司。

其中，中芯国际、华虹集团和长江存储从 2018 年至 2021 年第一季度一直为拓荆科技前五大客户。

▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度前五大客户（来源：拓荆科技招股书）

在供应方面，拓荆科技采购的原材料主要包括机械类、机电一体类、电气类、气体输送系统、真空系统和附属设备等。

报告期内，拓荆科技前五大供应商变动较小，2018 年至今 7 家厂商曾是拓荆科技的前五大供应商。

▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年第一季度前五大供应商（来源：拓荆科技招股书）

从市场上来看，全球半导体薄膜沉积设备市场主要由美国应用材料、美国泛林半导体、日本东京电子、荷兰先晶半导体等企业占据主导地位。

招股书显示，2019 年，在全球化学气相沉积（CVD）设备市场中，应用材料、泛林半导体、东京电子的市场占有率分别为 30%、21% 和 19%；在 ALD 设备全球市场中，东京电子（TEL）、先晶半导体（ASMI）的市场占有率分别为 31% 和 29%。

▲ 全球 ALD、CVD、PVD 设备市场份额（来源：拓荆科技招股书）

相比于上述公司，拓荆科技在营收、毛利率和净利润等盈利指标上存在较大差距，在融资渠道和研发经费上相对不足。此外，拓荆科技的业务收入也比较集中，相对外国半导体设备巨头来说企业认知度不足，面临一定的市场进入壁垒。

另一方面来看，拓荆科技已形成覆盖 20 余种工艺型号的薄膜沉积设备，满足晶圆制造产线多种工艺需求。其产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。

▲ 拓荆科技产品性能关键参数水平评价（来源：拓荆科技招股书）